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+XTU-A X熒光光譜儀是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度*的鍍層測(cè)厚儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì),不但可以測(cè)量各種微小樣品,即使大型超出樣品腔尺寸的工件也可測(cè)量,是一款測(cè)量涂鍍層成分及厚度性價(jià)比高、適用性強(qiáng)的機(jī)型。 該系列儀器使用于平面、微小樣品或者微凹槽曲面深度30mm以內(nèi)的樣品涂鍍層檢測(cè)。 被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。
XTD鍍層測(cè)厚儀,專業(yè)表面處理檢測(cè)解決方案: XTD系列測(cè)厚儀,專用于檢測(cè)各種異形件,特別是五金類模具、衛(wèi)浴產(chǎn)品、線路板以及高精密電子元器件表面處理的成分和厚度分析。 測(cè)量面積:最小0.04mm²鍍層分析:23層鍍層24種元素儀器特點(diǎn):可變焦對(duì)焦儀器優(yōu)勢(shì):同元素不同層分析.
XAU-4C(B)光譜分析儀是一款設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度*的光譜分析儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計(jì),是一款一機(jī)多用型光譜儀。 應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù),既保留了專用測(cè)厚儀檢測(cè)微小樣品和凹槽的性能,又可滿足微區(qū)RoHS檢測(cè)及成分分析。 被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。
XAU-4C光譜分析儀性能優(yōu)勢(shì):1.微小樣品檢測(cè):最小測(cè)量面積0.03mm²(加長(zhǎng)測(cè)量時(shí)間可小至0.01mm²)2.變焦裝置算法:可改變測(cè)量距離測(cè)量凹凸異形樣品,變焦距離可達(dá)0-30mm3.EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂鍍層,多層多元 素,甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測(cè)量。 4.*解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限。
XTD(B)鍍層測(cè)厚儀,專業(yè)表面處理檢測(cè)解決方案: XTD系列測(cè)厚儀,專用于檢測(cè)各種異形件,特別是五金類模具、衛(wèi)浴產(chǎn)品、線路板以及高精密電子元器件表面處理的成分和厚度分析。 儀器優(yōu)點(diǎn): 1. 分析精度* 2. 分析范圍廣泛